该设备集磁控溅射与离子镀膜技术为一体,主要用于各大院校及科研单位,可满足多种实验要求,对提高颜色一致性、沉积速率及化合物成份的稳定性提供了解决方案。
1、留多种结构靶位,灵活配置,以满足不同领域的科研开发;
2、可选配加热系统、偏压系统、离化系统、三维夹具等装置;
3、膜层结构稳定,附着力强,致密性好,工艺可重复性好;
4、自动化程度高、操作简单灵活、性能稳定、易维护;
5、外形美观、结构紧凑、占地面积小。
可镀基体材料:黄铜、锌合金、不锈钢、陶瓷、玻璃、塑料、陶瓷等;
主要膜系:金属层如钛、铬、银、铜或金属化合物膜层,如TiN、TiCN、TiC、TiO2、TiAlN、CrN、ZrN、类金刚石薄膜等。
主要颜色:金色系列、玫瑰金、咖啡色、银白色、枪黑色、蓝色、七彩色等。
备注:设备可根据客户要求定制。